芯片开封(Decap)的流程

于 2025-09-27 00:03:57 发布 57 阅读 0 评论

在集成电路分析领域,芯片开封(Decapsulation,简称Decap)是一项至关重要的技术环节。无论是进行失效分析还是反向工程研究,芯片开封都是打开微观世界大门的第一把钥匙。这项技术旨在精确移除包裹芯片的外部封装材料,完整暴露内部的晶粒、邦定线和焊盘,同时确保内部结构不受损伤,为后续分析工作奠定基础。

开封技术的原理与分类

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芯片开封方式通常有化学(Chemical)开封、机械(Mechanical)开封、激光(Laser)开封。

机械开封适用于陶瓷、金属等坚硬封装材料,通过物理手段进行移除;激光开盖则是一种借助高能量密度激光蚀刻掉芯片外部封装壳体的开盖方式。

而化学开封则主要针对占市场主流的环氧树脂塑料封装,利用化学试剂的选择性溶解特性实现精准开封。

在现代集成电路分析中,化学开封因其高精度和可控性成为最主流的开封方法,本文将重点探讨这一技术的详细流程与操作要点。

化学开封的前期准备工作  

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1. 安全防护
化学开封操作涉及发烟硝酸、发烟硫酸等强腐蚀性试剂,因此安全措施必须放在首位。操作人员必须在专业通风橱内进行作业,配备完善的个人防护装备和应急处理设施。
2. 样品评估与预处理
在开始开封前,需充分了解待处理芯片的基本信息。通过X-Ray透视技术预先检查芯片内部结构,可以初步判断晶粒位置、邦定线布局以及是否存在空腔等特征,为确定最佳开封位置提供依据。

样品预处理环节包括去除外部连接结构(如BGA封装的焊球)、表面清洁和固定夹持,确保只有需要开封的顶部暴露。

化学开封的核心流程

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1. 滴酸法

滴酸法是化学开封中最常用且可靠性高的方法,其核心设备是专用开封机,包含加热台、精密滴酸泵、抽风系统和显微镜等关键组件。

首先进行精确定位与加热预处理,将芯片放置在加热台上,温度一般设置在60°C-80°C范围。接着通过精密滴酸泵将酸液以可控方式滴加到芯片表面。

实时监控是整个流程的关键环节。操作人员需要通过显微镜观察腐蚀进程,一旦观察到内部结构露出,立即停止滴酸。停止反应后,需立即使用大量去离子水冲洗,并进行超声波深度清洁。

2.喷射法
喷射法是化学开封的另一种高效方法,特别适用于小尺寸、高精密封装(如UCSP、WLCSP)。该方法将酸液以高速、微小的喷射流形式冲击芯片表面特定点,实现更精确的定位和更快的腐蚀速度。

开封后的流程

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1. 清洗干燥与微观检查
芯片开封后需要进行彻底的清洗干燥,避免水渍残留形成污染。随后在光学显微镜或扫描电子显微镜下对暴露出的结构进行详细检查,评估开封质量和芯片状态。金鉴实验室拥有专业的测试设备和技术团队,能够确保化学开封前后的准确性和可靠性。

2. 文档记录与数据存档
对开封后的芯片进行高分辨率拍照存档,详细记录所有观察到的现象。完善的文档记录不仅为当前分析提供依据,也为后续类似案例提供参考比较的基础。

常见问题处理  

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1. 终点判断:经验与技术的结合
准确判断腐蚀终点是芯片开封的核心难点。过度腐蚀会损坏内部结构,而腐蚀不足则无法完整暴露待分析区域。这种判断能力需要长期经验积累。

2. 环境控制与废物处理
整个开封过程必须做好环境控制,使用过的酸液和清洗废液必须作为危险化学废液专门处理,严格遵守环保法规。

随着集成电路技术的不断发展,封装形式日益多样化和复杂化,芯片开封技术也面临着新的挑战和机遇。只有通过持续的技术创新和经验积累,才能在这一精密技术领域保持领先,为集成电路行业的进步提供坚实的技术支撑。

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